根据《彭博社》报导，美国正在推动荷兰禁止该国曝光微影设备制造商艾司摩尔 (ASML) 出售相关主流技术给大陆，以进一步遏止中国大陆在半导体产业崛起的趋势。美国政府希望将限制范围扩大至稍旧的DUV光刻机设备等，这些设备是半导体生产过程中所必需的，并且在这一市场中ASML拥有垄断地位。

     不仅如此，美国还试图在对中国禁售光刻机方面向日本施加压力，因为日本尼康公司在ArFi光刻机领域占有少量市场份额。

     美国提议的禁售，将使现有向中国出售最先进系统的限制范围进一步扩大，意在挫败中国成为全球芯片生产领导者的计划。如果荷兰政府同意，目前禁止发往中国的芯片制造设备范围和类别将大幅拓宽，从而可能令中芯国际和华虹半导体等芯片制造商受到沉重打击。

     知情人士透露，美国官员正在游说荷兰当局，禁止ASML出售一些旧款的深紫外线光刻机（DUV）。这些机器虽然在技术层次上与当前最尖端的极紫外光曝光微影系统 (EUV) 相比落后了一代，但仍是生产汽车、手机、计算机、甚至是机器人芯片时最常使用到的设备。

      而除了ASML之外，美国政府方面也正试图对日本施压，要求日本与ASML竞争的厂商Nikon也禁止向大陆提供相关的技术。对此，Nikon则表示，目前没有得到相关的讯息。对于此事，美国商务部和荷兰外交部不予置评。

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